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产地 | 国产 | 产品大小 | 中型 |
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产品新旧 | 全新 | 产水量 | 0.5 |
电压 | 380 | 反渗透系统 | 二级反渗透 |
功率 | 5000 | 结构类型 | 卧式 |
进水口径 | 65 | 水电阻率 | 18 |
自动化程度 | 半自动 |
20吨单级反渗透设备厂家
20吨单级反渗透设备厂家,推荐旭升。旭升拥有专业水处理技术研发团队设计开发客户真正需求的水处理设备,按照客户用水量,用水水质要求设计更加合理、科学的解决方案和设备架构
设备参数:
名称:超纯水设备
型号:XS-10T
进水口径:15-100(mm)
产水量:0.25-50t/h
工作压力:1.5MPa(psi)
概述:
选择去离子水设备的必要性:
去离子水在电子工业主要是线路板、电子元器件生产中的重要作用日益突出,去离子水质已成为影响线路板、电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一,水质要求也越来越高。在电子元器件生产中,去离子水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料,不同的电子元器件生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。
在晶体管、集成电路生产中,去离子水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片,水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏,水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。
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