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详细介绍
详情介绍：
该区域提纯炉主要由：高温梯度炉、真空炉管、真空法兰、电子真空计、质量流量计、分子泵组、直线导轨、速度控制器等重要部件构成。广泛用于半导体锗、硅提纯还可以用于金属、金属间化合物提纯。
主要技术参数：
工作温度：1200℃
炉管长度：1200mm
炉管直径：50mmm
炉管厚度：5mm
密封方式：不锈钢真空法兰
真空度：1.0X10E-3Pa
流量计类型：质量流量计
气体流量：100SCCM、200SCCM、500SCCM
载料舟长度：200mm
移动速度：160mm/60min（可根据实际要求调节）
温度控制：50段可编程控制
控制系统：全电脑程序控制
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