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分体式单靶磁控镀膜仪

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更新时间:2020-12-31 20:28:46浏览次数:248

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产品简介

简单介绍: 本设备为单靶磁控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备。本套配置采用石英真空腔体,镀膜过程全向可视,便于实验的观察记录,腔体设计开启方便,易于清理,十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台,可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用模块化设计......

详细介绍

详情介绍:

样品台

尺寸

150mm

加热温度

≤500℃

 

旋转速度

1-20r/min

控温精度

±1℃

磁控溅射头

数量

2英寸 x1 

冷却方式

水冷

真空腔体

腔体尺寸

φ270mm X 200mm

观察窗口

全向可视

 

腔体材料

高纯石英

开启方式

顶盖拆卸式

真空系统

机械泵

CY240

抽气接口

KF16

 

抽气速率

1.1L/s

 

 

 

分子泵

CY600

抽气接口

KF40

 

抽气速率

600L/s

排气接口

KF40

 

真空测量

电阻规+电离规

 

 

 

极限真空

10-5Pa数量级

供电电源

AC;220V 50/60Hz

电源配置

直流电源数量

1台

输出功率

500W

 

输出电压

≤600V

响应时间

<5ms

 

射频电源数量

1台

输出功率

≤1000W

 

功率稳定度

≤5W

 

 

膜厚监控系统

膜厚仪测量分辨率

±0.03Hz

测量精度

±0.5%

 

测量上限

50000

测量速度

100~1000ms

水冷系统

水箱容积

9L

流量

10L/min

其他

供电电压

AC220V,50Hz

整机功率

3kw(主机+真空泵)

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