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过程气体分析质谱仪

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更新时间:2021-07-08 15:32:32浏览次数:402

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产品简介

The HPR-30 is a residual gas analyser configured for analysis of gases and vapours in vacuum processes and for vacuum diagnostics.

详细介绍

HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser),适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。

 

·简洁的桌上型,移动推车或控制台架结构
·Direct re-entrant流孔板,差式泵,以达到宜的灵敏度
·软离子化技术,分析复杂有机物,或表观MS研究
·MASsoft软件控制,或由局域网进行多个系统控制
·气动阀自动控制;出现电力不足或压力过大等不安全状况时可启用手动隔离装置
·自动、同时数据取得、分析,实时显示、报警

 

·质量数范围:   1200 amu(标准配置); 3005101000amu可选

·高灵敏度:     5ppb

·取样压力:     10-4mbar1mbar 标准配置

                       1mbar30bar 选配

·稳定性好:     24h以上,小于峰高的±0.5%

·过程控制开关

·信号输入、输出接口

Hiden HPR-30 Series Process Gas Analysers (1.2 MB)

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)

AP0002 - Surface Characteristics of Parylene-C Films in an Inductively Coupled O2/CF4 Gas Plasma (211 KB)

Partial Pressure Control in Reactive Sputtering (343 KB)

HPR-30 Monitoring TiN Depsoition (113 KB)

HPR-30 Vacuum Process Gas Analyser (1.4 MB)

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