Quorum系列镀膜仪选型指导

Quorum系列镀膜仪选型指导(含Plus版本镀膜仪)：

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Quorum离子溅射镀膜仪和SEM/TEM应用镀碳仪之选择指南

Q Plus系列镀膜仪是英国Quorum享誉和市场的系列离子溅射和碳镀膜仪的版本。它们越来越多地用于高分辨率显微分析技术中，超精细镀膜是该领域必需的制样工艺。

溅射镀膜是在扫描电镜（SEM）观察之前对不导电或导电不良样品进行制备的标准方法。Quorum既提供经济的旋转机械泵溅射镀膜仪，用于沉积金（Au）和铂（Pt）等不氧化贵金属，也提供涡轮分子泵版本的镀膜仪，氧化（如：铬Cr）和不氧化金属均可沉积。

为了进一步改善超精细镀膜层，Quorum推出了的Q150V Plus系列镀膜仪，其极限真空度可达1 x 10^-6mbar，以便获得更加的镀膜效果。

大腔室溅射镀膜仪可用于直径达200 mm的大样品镀膜。大多数Quorum镀膜仪也可通过选用易互换的碳棒或碳绳镀膜头配置为碳蒸发镀膜仪。

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电镜和薄膜应用的镀膜仪快速概览

Q150V Plus系列3个型号镀膜仪适用于高真空应用。这一新产品为用户提供了为超高分辨率应用（放大倍率超过x 200k）制作更细成膜颗粒和更薄膜层的能力。

Q150T Plus系列3个型号镀膜仪适用于扫描电镜、透射电镜和许多薄膜应用。

旋转机械泵抽真空的Q150R Plus系列3个型号镀膜仪适用于使用不氧化贵金属镀膜的钨灯丝扫描电镜及部分场发射电镜的应用，以及用于为EDS和WDS分析制备碳膜的SEM样品。

对于较大的样品，可选用Q300T T Plus涡轮分子泵高真空镀膜仪，允许在8”/200 mm以下的单个大样品（例如晶圆）或类似直径范围内放置多个较小样品进行镀膜。三个溅射头配装相同的靶材，以确保均匀的大面积沉积镀膜。

对于薄膜应用，Q300T D Plus双靶顺序溅射镀膜仪是一个很好的选择，它允许连续溅射不同靶材镀制2层或多层金属膜，且期间无需破真空。

Q150GB是Q150T ES Plus镀膜仪的模块化版本，目的是集成到手套箱中。

SC7620是一款结构紧凑的经济型扫描电镜离子溅射镀膜仪，可选碳绳蒸发附件。

台式真空热蒸发镀膜仪

高真空条件下热蒸发镀膜是一种沉积镀制金属和碳薄膜的常用方法，其典型应用包括透射电镜（TEM）和许多薄膜研究所需的碳支撑膜和复形膜的制作。K975X涡轮泵热蒸发镀膜仪是一个大腔室系统，标配碳棒枪和金属丝/舟蒸发源。

作为成功的Q系列溅射/碳镀膜仪家族的一员，Q300T ES Plus是一个大腔室涡轮分子泵抽真空的镀膜系统，非常适合在大直径样品或多个较小试样上进行金属蒸发镀膜，Q300T ES Plus还配备了可互换的溅射头和碳蒸发头。