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NIE-4000 离子束刻蚀系统,NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统 详细摘要: NIE-4000 离子束刻蚀系统,NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统,通过加速的 Ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀...
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-22 参考价: 面议 在线留言 -
PlasmaPro 800 RIE反应离子刻蚀机 详细摘要: 英国Oxford 反应离子刻蚀机PlasmaPro 800 RIE,是结构紧凑、且使用方便的直开式系统,该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(RI...
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-20 参考价: 面议 在线留言 -
集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统 详细摘要: Sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统,SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂,可适用...
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-20 参考价: 面议 在线留言 -
ALD实时监测仪 详细摘要: 德国Sentech ALD实时监测仪,SENTECH ALD实时监测仪是一种新型的光学诊断工具,是心灵超高分辨率的单一ALD循环。在不破坏真空的条件下分析薄膜特...
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-20 参考价: 面议 在线留言 -
NOC-4000离子束刻蚀溅射镀膜一体机 详细摘要: Nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 NOC-4000,提供的原子级清洗、抛光以及光学镀膜技术。
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-19 参考价: 面议 在线留言 -
PlasmaPro 100 ALE牛津原子层刻蚀机 详细摘要: 牛津原子层刻蚀机PlasmaPro 100 ALE,它具有足够的灵活性,可用于研究和开发,通过打造质量满足生产需求。
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-14 参考价: 面议 在线留言 -
PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蚀系统 详细摘要: PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蚀系统,平台旨在提供深硅蚀刻(DSiE)领域的的灵活性以满足微电子机械系统(MEMS)、 *封装以及纳米技...
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-14 参考价: 面议 在线留言 -
Ionfab 300 IBE 牛津离子束刻蚀机 详细摘要: 牛津离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE,离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模...
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-14 参考价: 面议 在线留言 -
PlasmaPro 80 PECVD牛津等离子沉积机 详细摘要: PlasmaPro 80 PECVD牛津等离子沉积机,是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且...
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-14 参考价: 面议 在线留言 -
牛津OpAL 开放式样品载入ALD设备 详细摘要: 牛津OpAL 开放式样品载入ALD设备,紧凑型开放式样品载入原子层沉积(ALD)系统,OpAL提供了专业的热ALD设备,可以简单明了的升级使用等离子体,使得在同...
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PlasmaPro 80 ICP 英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机 详细摘要: PlasmaPro 80 ICP 英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统,可提供多种刻蚀解决方案。 它易于放置,便于使...
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-14 参考价: 面议 在线留言 -
System 100 等离子刻蚀与沉积设备 详细摘要: 牛津OXFORD System 100 等离子刻蚀与沉积设备,具有工艺灵活性,适用于化合物半导体,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术。
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PlasmaPro 80 RIE 牛津等离子体刻蚀机 详细摘要: PlasmaPro 80 RIE 牛津等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且...
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-14 参考价: 面议 在线留言 -
Plasma Stripper (Asher) 等离子去胶机 详细摘要: Plasma Stripper (Asher) 等离子去胶机(灰化),从蚀刻晶圆片上移除光刻胶。
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PlasmaPro 80 ICPCVD 英国Oxford 牛津等离子沉积机 详细摘要: PlasmaPro 80 ICPCVD 英国Oxford 牛津等离子沉积机,是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于...
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RIE SI 591 等离子刻蚀机 详细摘要: RIE 等离子刻蚀机 SI 591,特别适用于采用氟基和氯基气体的工艺,可以通过预真空室和电脑控制的等离子工艺系统实现。SI 591的特点是占地空间小,高度灵活...
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-13 参考价: 面议 在线留言 -
Depolab 200 等离子体沉积机 详细摘要: PECVD等离子体沉积工具Depolab 200将平行板等离子体源设计与直接负载相结合。
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-13 参考价: 面议 在线留言 -
SI 500 D 等离子沉积机 详细摘要: SI 500D 代表了等离子体增强化学气相沉积介电薄膜、a-Si、SiC和其他材料的前沿。它基于PTSA等离子体源,反应气体分离气体入口,动态控温基片电极,全控...
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SI 500 PPD等离子沉积机 详细摘要: SI 500 PPD是一种*的等离子体增强化学气相沉积介质薄膜的工具,硅、碳化硅和其他材料。它是基于平面电容耦合等离子体源,真空加载锁定,控温基片电极,可选配低...
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-13 参考价: 面议 在线留言 -
SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统 详细摘要: SENTECH SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统,感应耦合等离子刻蚀机台,低损伤纳米结构刻蚀,高速率刻蚀,内置ICP等离子源,动态温控。
产品型号: 所在地: 更新时间:2021-07-13 参考价: 面议 在线留言