德国海德堡 激光直写光刻机DWL 66+

科研用激光直写系统
具有多种直写模块，实现不同精度直写需求
能于结构上进行灰度曝光

DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器，适用于小批量掩模板制作和直写需求。该系统的功能和灵活性使其成为Life Science, Advanced Packaging, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor以及所有其他需要微结构应用的刻研工具。DWL 66+的客户群包括200多所大学和研究机构，许多系统功能是与这些机构合作开发，及*技术不断改进以增加高分办率：DWL 66+的最小结构尺寸为300 nm，提供了*的分辨率，优于或等于研发领域中大的光学光刻系统。

基本的DWL 66+包含创造和分析微结构所需的所有功能。它可以用于掩模板制作或直写在任何涂有光刻胶的平坦材料上，多样化选择可提高灵活性，使系统适用于更多应用领域。