产品展厅收藏该商铺

您好 登录 注册

当前位置:
深圳市蓝星宇电子科技有限公司>半导体辅助工艺>富士 PI

富士 PI

返回列表页
  • 富士 PI

收藏
举报
订金 面议
  • 型号
  • 品牌
  • 厂商性质 其他
  • 所在地

在线询价 收藏产品 加入对比

更新时间:2021-07-22 20:56:14浏览次数:11

联系我们时请说明是制药网上看到的信息,谢谢!

产品简介

富士负性PI LTC9000系列:LTC 9305. LTC9310, LTC9320, LTC9505, LTC9510, LTC9520.正性PI:FB5610,FB6610光敏性Polyimide Precursor: 7500, 7510, 7520 ,DUR 7300非光敏Polyamic Acid: 112A, 115AColor Mosaics:......

详细介绍

富士PI

详细介绍:

材料型号具体规格用途使用方法特点厚度范围/um分辨率备注
负性PI(polyimide)LTC9000 系列LTC 9305作为介电层或缓冲层光刻负胶,低温固化;用于铜衬底工艺4-504um此polyimide需要专用显影液HTD-2和漂洗液RER-600。
这些产品为我司比利时工厂生产,运输方式是空运。但由于聚酰亚胺是深度冷藏产品,所以聚酰亚胺和显影液漂洗液需分开运输,也就是说有两张运单。
LTC 9310
LTC 9320
LTC 9505作为缓冲层LTC9500系列用于非铜衬底工艺,两者的固化温度可以到250C。
LTC 9510
LTC 9520
正性PIFB5610 作为介电层或缓冲层光刻,
350度 固化
正性聚酰亚胺产品4—8  
FB6610 
光刻,
300度固化
   
光敏型Polyimide PrecursorDurimide®7500Durimide®7505 2-5μm光刻 2-50  
Durimide® 7510 4-15μm   
Durimide® 7520   
DUR7300     
非光敏Polyamic AcidDurimide® 100系列112A终烤参数推荐: ramp from room temperature to 400°C at 3 to 6 °C/min. The temperature will be
held at 400°C for 30 minutes. To prevent oxidation of the polyimide film, the oven should then be
allowed to cool slowly to below 200°C before parts are removed.
非光敏;使用传统光刻胶实现图形化1.5-2.5膜厚的4倍非光敏产品的固化温度都很高(350C或400C),没有低温产品。
115A3——5
Color MosaicsSI-5000 透红外(IR-PASS),滤可见光光刻负性光刻胶0.5-1.51.7um

以上信息由企业自行提供,信息内容的真实性、准确性和合法性由相关企业负责,制药网对此不承担任何保证责任。
温馨提示:为规避购买风险,建议您在购买产品前务必确认供应商资质及产品质量。

收藏该商铺

登录 后再收藏

提示

您的留言已提交成功!我们将在第一时间回复您~

对比框

产品对比 二维码 意见反馈

扫一扫访问手机商铺
在线留言