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Lifft off光刻胶

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更新时间:2021-07-22 21:01:04浏览次数:9

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产品简介

Lifft off光刻胶 : RN-218系列, RN-246系列,ma-N 400 系列/1400 系列,AZ nLOF 2000系列, LOR/PGMI, LOL 2000

详细介绍

lift off光刻胶

详细介绍:

Liftft off光刻胶光刻胶型号适用光谱厚度范围/um分辨率适用工艺
RN 218系列g/h/i-Line4-12um2umlift off 厚膜负性光刻胶
RN 246系列g/h/i-Line4-12um2umlift off 负性光刻胶
ma-N 400系列/1400系列g/h/i-Line4-12um0.5um负性光刻胶,可用于传统光刻和lift off工艺,适用于高温工艺

AZ nLOF 2000系列

i-line

2-11um

0.5umlift off 负性光刻胶,耐特高温;可用于RIE工艺

LOR/PGMI

g/h/i-Line

0.35-7

0.5um双层胶工艺
LOL2000g/h/i-Line130nm-300nm0.5um双层胶工艺

2.jpg

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