详细介绍
AZ 系列光刻胶:
AZ 1500 系 列 光 刻 胶,为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶
特 征
1) 高感光度,高产出率
2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进
3) 广泛应用于半导体行业
参考工艺条件
前烘 :100℃ 60秒 (DHP)
曝光 :G线步进式曝光机/接触式曝光机
显影 :AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle
清洗 :去离子水30秒
后烘 :120℃ 120秒 (DHP)
剥离 :AZ剥离液及/或氧等离子体灰化
产品型号(PRODUCT RANGE)