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AZ 光刻胶

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更新时间:2021-07-23 20:23:35浏览次数:584

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产品简介

AZ 光刻胶,G线/I线/G线I线通用光刻胶系列

详细介绍

AZ 系列光刻胶:

AZ 1500 系 列 光 刻 胶,为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶

特 征
1) 高感光度,高产出率
2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进
3) 广泛应用于半导体行业
参考工艺条件
前烘 :100℃ 60秒 (DHP)
曝光 :G线步进式曝光机/接触式曝光机
显影 :AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle
清洗 :去离子水30秒
后烘 :120℃ 120秒 (DHP)
剥离 :AZ剥离液及/或氧等离子体灰化
产品型号(PRODUCT RANGE)

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