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W5型全谱直读光谱分析仪 红外光谱仪

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更新时间:2024-01-15 09:42:05浏览次数:412

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产品简介

W5型全谱直读光谱仪拥有可快速的对金属材料样品进行元素测定

详细介绍

W5型全谱直读光谱分析仪

W5型全谱直读光谱仪拥有可快速的对金属材料样品进行元素测定。光学系统采用CMOS检测器,光谱范围覆盖全部典型材料。无论从低含量元素还是到高含量的元素,它都能准确、可靠的分析。公司在行业内拥有光谱多年的生产经验积累,针对不同材料、不同要求,设计了这款全新的、更具性价比的全谱直读光谱仪,可满足金属制造业、加工业及金属冶炼用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的应用。

黑科技一:性能优越的光学系统
帕邢-龙格结构凹面光栅,全谱覆盖,满足客户对全元素检测的需求。
直射式光学技术及采用MgF材料制作的光学器件,保证紫外区域的性能。
高分辩率多CMOS读出系统,较低的暗电流,较好的检出限,较高的稳定性,较强的灵敏度,满足N的分析要求。

黑科技二:智能数字激发光源
全数字化智能复合光源DDD技术,带来优越分析性能。
紧凑的设计及半导体控制技术,使得光源具有较好的稳定性、更强的可靠性。
高能预燃技术(HEPS),激发参数调整,充分满足不同基体、不同样品以及不同分析元素的激发要求。

黑科技三:智能样品激发台设计
激发台直接将激发光导入光学系统
开放式样品台,满足大样品测试要求。
变换电极可对小样品及复杂几何形状样品分析有较好的性能
视频识别技术,确保样品台激发安全,可监测样品台的全景。

黑科技四:智能集成气路模块
智能氩气流设计及粉尘收集清理装置
氩气喷射技术,有效消除激发过程中等离子体的飘移,确保CCD检测器能够观测高温区域光信号,提高精度和稳定性。
激发后,脉冲式氩气吹扫,提高粉尘去除效果,提升仪器的短期和长期稳定性。


黑科技五:智能真空测量和控制
真空系统*程控,在保证真空度的同时减少真空泵的运行时间,
双级设置,在仪器不运行的情况下,开启待机真空运行状态。
多级真空隔离措施及增加滤油装置,保障光学元器件在可靠的环境中工作。

黑科技六:透镜清理装置
不锈钢真空球阀,在清理透镜时有良好的隔离效果。
单板式透镜设计,拆装方便。
交叉机械装置,在未解除隔离的情况有效保护光学系统。

黑科技七:计算机及读出系统
计算机与手机(或PAD)可同步显示,方便面板操作。
高分辩率多CMOS读出系统及FPGA、DSP和ARM技术,进行数据采集。
以太网和TCP/IP协议,数据传输高速、可靠。
数据可远程传输,全面实现网络化。实时方便对仪器运行状态的监测和控制。
数据可进行云打印。

黑科技八:专用的光谱分析软件
光谱仪制作标准的专用光谱仪软件,操作界面人性化,功能标准化。
仪器在软件中配备多条工厂校正曲线及更多材质分析方法和*的解决方案。
可根据用户的材料要求,可现场延长标准曲线的测量上、下限。


其它黑科技:
自动光路校准
低氩气消耗
通用可调样品适配器
基体扩展功能
标准化参数修改
控样修正功能
安全、开放的便捷设计
结果实时显示,可为用户定制打印报告功能
软件快速诊断
界面操作简单
可靠的工厂校准功能
技术参数:
项目指标
检测基体铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基、锰基、铬基等13个基体
光学系统帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统
波长范围165~580nm(可安装上下限检测器扩大波长范围)
光栅焦距400mm
探测器高分辩率多CMOS图像传感器
光源类型DDD数字激发光源,高能预燃技术(HEPS)
放电频率100-1000Hz
放电电流大400A
检测时间依据样品类型而定,一般在25s左右
电极类型钨材喷射电极
分析间隙样品台分析间隙:3.4mm
真空系统真空软件自动控制、监测
光室恒温34℃,温度自动监测
氩气纯度99.999%
氩气压力0.5MPa
工作电源AC220V 50/60Hz
仪器尺寸860*680*438mm
仪器重量约100kg



应用行业:钢铁行业、有色金属、合金铸造、机械加工、商检质检、材料研究

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