上海依肯机械设备有限公司
免费会员

当前位置:上海依肯机械设备有限公司>>研磨分散机>>头孢喹肟研磨分散机>> CMSD2000头孢喹肟研磨分散机

头孢喹肟研磨分散机

参  考  价面议
具体成交价以合同协议为准

产品型号CMSD2000

品       牌

厂商性质生产商

所  在  地上海市

联系方式:段勇查看联系方式

更新时间:2018-02-06 15:18:01浏览次数:5714次

联系我时,请告知来自 制药网
同类优质产品更多>
头孢喹肟研磨分散机,头孢喹肟研磨机,头孢喹肟胶体磨,头孢喹肟分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

头孢喹肟研磨分散机,头孢喹肟研磨机,头孢喹肟胶体磨,头孢喹肟分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

头孢喹肟头孢喹肟 是目前*一个动物第四代头孢类抗生素,具有抗菌谱广,抗菌活性强的特点,适用于非肠道用药。

一种兽用*硫酸头孢喹肟注射液及其制备方法。每100mL该注射液由2.5-7.5g硫酸头孢喹肟、0.2-0.4g助悬剂、0.4g抑菌剂、0.3g乳化分散剂和余量的溶媒组成。制备方法为首先将硫酸头孢喹肟加入溶媒中,搅拌使之充分混匀;然后将助悬剂加入90-100的溶媒中溶解;将第二步的溶解液冷却至室温后加入正在搅拌的*步的混悬液中,搅拌均匀;再加入抑菌剂和乳化分散剂至第三步的混悬液中,充分搅拌;zui后加入剩余量的溶媒,搅拌混匀,依次过研磨分散机

辐照灭菌后制得产品。

头孢喹肟研磨分散机

是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。


研磨分散机应用领域:


医药工业:各型糖浆、营养液、中成药、膏状药剂、生物制品、鱼肝油、花粉、蜂皇浆、疫苗、各种药膏、各种口服液、针剂、注射液,混悬注射液,脂肪乳,静滴液,乳化猪皮等。

胶体磨磨头CM2000胶体磨

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


CMOD 2000/4

50

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMOD 2000/5

200

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMOD 2000/10

500

4,200

23

22

DN80/DN65

CMOD 2000/20

1500

2,850

23

37

DN80/DN65

CMDO 2000/30

3000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMOD2000/50

6000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水"的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。


 

经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

1  线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

会员登录

×

请输入账号

请输入密码

=

请输验证码

收藏该商铺

X
该信息已收藏!
标签:
保存成功

(空格分隔,最多3个,单个标签最多10个字符)

常用:

提示

X
您的留言已提交成功!我们将在第一时间回复您~
在线留言