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CVD/CVI/PECVD系统

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更新时间:2023-12-25 12:16:21浏览次数:150

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产品简介

设备特点1.高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成,真空可达10-4Pa

详细介绍


  1. 设备特点


1.高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成,真空可达10-4Pa;
2.可配合压强控制仪控制气体压力,实现负压的精准控制;
3.数字质量流量控制系统是由多路质量流量计,流量显示仪等组成,实现气体的流量的精密测量和控制;
4.每条气体管路均配备高压逆止阀,保证系统的安全性和连续均匀性;
5.采用KF快速法兰密封,装卸方便快捷;
6.管路采用世界Swagelok卡套连接,不漏气;
7.超温、过压时,自动切断加热电源及流量计进气,使用安全可靠;
8.PECVD借助射频等使含有薄膜组成原子的气体,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,更容易发生反应。


  1. 设备参数

类别

加热炉

射频电源

真空系统

混气系统

压强控制系统

尾气处理系统

温度

加热区

型式

管径

长度

CVD

1200~1700℃

220~440mm

卧式、滑动式

Φ60~Φ100

600~1600

10Pa
1Pa
5*10-3Pa
(可选)

MFC单路或多路控制

可选

  1. 过滤
  2. 燃烧
  3. 冷凝
  4. 中和反应

(可选)

CVI

1200~1700℃

220~440mm

立式、滑动式

Φ60~Φ100

600~1600

PECVD

1200℃

220~440mm

卧式、滑动式

Φ60~Φ100

1200~1600

300~500W




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