联系方式：中山凯旋查看联系方式
更新时间：2017-07-26 17:30:26浏览次数：3075
联系我们时请说明是制药网上看到的信息，谢谢!
【简单介绍】
主要用于塑胶、石膏、陶瓷、玻璃、金属等真空处理，提高制品的装饰性。
【详细说明】
概述
我公司是生产真空应用设备的专业厂家，真空镀膜设备是我公司主要产品之一，随着薄膜应用的普遍，真空镀膜设备的需求量也越来越大，我公司根据市场需求和自身的雄厚技术实力，生产以下各类。
真空蒸发镀膜设备
主要用于塑胶、石膏、陶瓷、玻璃、金属等真空处理，提高制品的装饰性。
设备基本构成：
1. 真空室体
2. 工件架及小车
3. 真空系统
4. 蒸发系统
5. 气动系统
6. 控制系统
7. 冷却系统
主要技术参数：
1. 镀膜室尺寸：Ф1400mm x 1900mm/Ф1600mm x 1900mm (也可根据用户另行设计)
2. 工件架有效装载尺寸：Ф350mm x 1600mm/Ф450mm x 1600mm
3. 极限真空：2 x 10a
4. 漏率：≤0.1Pa.L/S
5. 抽空时间：从大气到2 x 10 ≤10min (清洁，空载)
6. 蒸发功率：20kW
多弧离子镀膜设备
主要用于在金属材料及非金属材料表面镀覆Tin, Tic 及其他膜层，以提高制品表面硬度，耐磨性和抗腐蚀性能，并提高装饰性。
设备基本构成：
1. 真空镀膜室
2. 工件转架及传动系统
3. 真空系统
4. 多弧蒸发系统
5. 高压轰击系统
6. 偏压系统
7. 烘烤加热系统
8. 充气系统
9. 冷却水系统
10. 气动系统
11. 电控系统
主要技术参数：
1. 真空镀膜室内腔尺寸：Ф1000mm x 1500mm （也可根据用户要求定）
2. 工件架有效装载尺寸：Ф240mm x 1000mm x 6轴
3. 工件架转速：公转：0~4r/min，自转：0~15r/min
4. 极限真空：1.3 x 10Pa(清洁，空载)
5. 工作本底真空：6.6 x 10Pa (清洁，空载)
6. 工作真空：1.33Pa~1.3 x 10Pa
7. 漏率：≤0.1Pa.L/S
8. 二次恢复时间：≤15min
9. 多弧源：功率2kW,数量10个
10. 烘烤加热：M x 300℃，加热功率：20kW
11. 轰击电压：0~1000V
12. 负偏压：300~500V
设备特点
1、 自动化程度高，能够严格按照设定的工艺曲线实现升温、保温、降温。
2、 控温精度高，炉温均匀性好
3、 真空机组抽速大，极限真空高。
空心阴极离子镀膜机
该类设备主要用于 Tin, Tic 等硬膜的镀制，使制品表面硬度、耐磨性等提高，并提高装饰性。
设备基本构成：
1. 真空镀膜室
2. 工件转架及传动系统
3. HCD枪
4. 坩埚
5. 聚焦线圈
6. 高压轰击系统
7. 烘烤加热系统
8. 充气系统
9. 气动系统
10. 冷却水系统
11. 电控系统
主要技术参数：
1. 真空室尺寸：Ф1000mm x 1300mm （也可根据用户要求定）
2. 极限真空：2 x 10Pa
3. 工作真空度：1.33 ~ 1.3 x 10 Pa
4. 漏率：≤0.1Pa.L/S
5. 烘烤加热：max 550℃\
6. HCD枪功率：30kW
7. 工件偏压：0 ~ 60V
8. 轰击电压：0 ~ 1000V
