上海依肯机械设备有限公司

主营产品: 乳化机,均质机,分散机,胶体磨,剪切机,乳化泵

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公司信息

人:
马玉林
址:
上海松江区九新公路865号信颐科技产业园B栋13795214885
编:
铺:
https://www.zyzhan.com/st33298/
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CMD2000盐酸克林霉素注射液研磨分散机
盐酸克林霉素注射液研磨分散机
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
  • 型号 CMD2000
  • 品牌
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 上海市

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更新时间:2022-05-10 15:34:44浏览次数:915

联系我们时请说明是制药网上看到的信息,谢谢!

【简单介绍】
盐酸克林霉素注射液研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。
【详细说明】

盐酸克林霉素注射液研磨分散机,医药混悬液研磨分散机,高速研磨分散机,高剪切研磨分散机,分体式研磨分散机

盐酸克林霉味抗生素类药物。为林可霉素的衍生物,自1970年在我国上市。抗菌谱和林可霉素相同,但抗菌作用强,临床主要用于骨髓炎、厌气菌引起的感染、呼吸系统感染、胆道感染、心内膜炎、中耳炎、皮肤软组织感染及败血症等。在应用中zui常见的不良反应:过敏反应,注射局部刺激和肝功能异常,zui严重的是伪膜性肠炎

 

上海依肯研发的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择) IKN研磨分散机可以高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速可达14000rpm,是目前国产设备转速的4-5倍。

 

盐酸克林霉素注射液研磨分散机,医药混悬液研磨分散机,高速研磨分散机,高剪切研磨分散机,分体式研磨分散机

CMD2000研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

CMD2000研磨分散机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。

 

研磨分散机的优势:

更稳定 采用优化设计理念,将*的技术与创新的思维有效融合,并体现在具体的设备结构设计中,为设备稳定运行提供了保证.

新结构 通过梳齿状定子切割破碎,缝隙疏密决定细度大小,超高线速度的吸料式叶轮提供*切割力,纤维湿法研磨破碎可达400目.

更可靠 采用整体式机械密封,zui大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题,安装与更换方便快捷.

新技术 采用*的受控切割技术,将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内,满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.

 

CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

 

研磨分散机的特点:

1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

 

2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

设备核心参数:

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

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CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%

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