化学气相沉积CVD

简介

MPCNT化学气相沉积CVD 是使用乙醇作为碳源的微型、简化碳纳米管（CNT）合成系统。乙醇是用于生产碳纳米管CNT的非常方便的材料。它不需要像甲烷或乙炔气这样的可燃气瓶，并且允许在任何地方进行 碳纳米管CNT合成实验。

MPCNT化学气相沉积CVD系统不需要使用还原气（氢气）来还原催化剂，因为乙醇还具有很强的金属还原作用。 由于合金中的Ni，Fe或Co催化元素作为催化颗粒被隔离，乙醇的还原作用使CNT可以直接在NiCu，SUS等合金材料上生长，而无需沉积催化剂薄膜。

使用MPCNT化学气相沉积CVD系统，可以在各种类型的基板（例如硅，石英，不锈钢，金属和陶瓷）上生长高度结晶、垂直排列的碳纳米管CNT。设备的外形尺寸与个人计算机一样紧凑。操作简单，整个过程仅需20至30分钟。透明的玻璃室可以直接观察碳纳米管CNT的生长过程。该系统适用于大学实验室的碳纳米管CNT合成实验。

*注意：在碳纳米管CNT生长之前，应在基材上沉积一层薄的催化剂膜。如果客户没有催化膜形成系统（例如真空沉积设备或溅射系统），建议使用我们的MPCNT-Premium化学气相沉积CVD 系统，它是一个完整的系统，涵盖了从催化剂形成到碳纳米管CNT生长或功能强大的一系列过程真空沉积设备MPVAP。我们也提供具有催化膜的基材（消耗品）。

台式化学气相沉积CVD系统的基本模型旨在让研究人员仅使用乙醇液体（不使用任何烃类气体）作为碳源，在衬底（硅、石英、金属、陶瓷）上生长垂直排列的碳纳米管CNT，从而获得高度结晶的碳纳米管CNT。 台式化学气相沉积CVD系统可以安装在任何地方，即使在无法储存氢气（例如C2H2或C2H4）的实验室中。

特征          

• 配备乙醇注入装置，不需要易燃的烃类气体
• 碳纳米管CNT生长仅需几分钟，整个操作过程不到30分钟
• 结构紧凑、操作简单、高质量的碳纳米管CNT

技术参数