干燥设备 粉碎设备 混合设备 反应设备 过滤分离设备 过滤材料 灭菌设备 萃取设备 贮存设备 传热设备 锅炉 塔设备 结晶设备 其他制药设备
伯东企业（上海）有限公司
伯东企业（上海）有限公司
暂无信息 |
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 2000 特别适合大中型真空系统, 带有水冷方式, 低成本设计提供高离子电流. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.尺寸: 直径= 5.7 高= 5.5放电电压 / 电流: 50-300V / 10A 或 15A操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
伯东 KRI 霍尔离子源 eH 2000 特性：
1.水冷 - 与 KRI 霍尔离子源 eh 1000 对比, 提供更高的离子输出电流
2.可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
3.宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
4.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便
5.高效的等离子转换和稳定的功率控制
您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
制药网 设计制作，未经允许翻录必究 .
请输入账号
请输入密码
请输验证码
