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伯东企业（上海）有限公司
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上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.尺寸: 直径= 3.7 高= 3放电电压 / 电流: 50-300eV / 5a操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, ......
伯东 KRI 霍尔离子源 eH 400 特性：
1.可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
2.宽波束高放电电流 - 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
3.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统
4.高效的等离子转换和稳定的功率控制
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