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高速剪切胶体磨,高速胶体磨,德国高速胶体磨,分体式高速胶体磨是 由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
高速剪切胶体磨的粉碎效果
影响研磨粉碎结果的因素有以下几点
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2 胶体磨磨头头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
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线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
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IKN纳米胶体磨与国内胶体磨的性能比较:
一、转速和剪切速率:IKN纳米胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440S-1通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍
二、胶体磨头和间距:IKN纳米胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差
三、机械密封:IKN纳米胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至zui低,可24小时不停运转国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
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定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
IKN管线式高剪切胶体磨与卧式胶体磨比较:
转速和剪切力:
国内胶体磨,3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速
线速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切胶体磨,9000/14000RPM通过皮带加速
线速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
这是研磨粉碎的重要因素,相当于后者是前者的4-5倍
设备设计构造:
国内胶体磨,卧室直联结构,运行时间长,容易造成轴的偏心,运转不正常,需要专业的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴
IKN高剪切胶体磨,立式分体结构,运行时间长,不易造成轴的偏心,容易更换,而且只要更换相应的皮带,一般的人员可以操作。
密封:
国内胶体磨,填料密封或骨架密封,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
IKN胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至zui低,可24小时不停运转,特殊德国PDFE轴封,可以运行10000小时,可选择德国高品质机械密封,在一般的情况下,我们的机械密封可以zui大承受16bar 压力,根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口zui大压力可以达到12-13 bar .
产品效果:
国内胶体磨,粒径细度有限,10微米以下较困难,重复性差,产品粒径分布不均匀
IKN高剪切胶体磨,可实现0.1-1微米的颗粒加工,粒径分布均匀,纳米级分散乳化粉碎
高速剪切胶体磨,高速胶体磨
高速胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMS 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMS 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMS 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMS 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMS 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMS 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
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