中试型胶体磨，管线式胶体磨，分体式胶体磨

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  胶体磨NK2000系列特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，NK在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。NK2000整机采用几何机构的研磨定转子，的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。


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中试型胶体磨运行原理：
中试型胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入中试型破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后，从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的zui小细度可达0.5um。
                 
中试型胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的*水平。
CIK中试型胶体磨结构：


三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区。
  
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NK2000系列的特点：
①定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
 
 NK2000系列设备选型表
型号 流量
L/H 输出转速
rpm 线速度
m/s 马达功率
KW 出/入口连接
NK2000/4 700 9，000 23 2.2 DN25/DN15
NK2000/5 3，000 6，000 23 7.5 DN40/DN32
NK2000/10 8，000 4，200 23 15 DN50/DN50
NK2000/20 20，000 2，850 23 37 DN80/DN65
NK2000/30 40，000 1，420 23 55 DN150/DN125
NK2000/50 80，000 1，100 23 110 DN200/DN150
注：流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同事流量可以被调节到zui大允许量的10%
 
CIK的NK2000系列和国内设备相比
三级结构 磨头结构 转速 zui大线速度 模块头 密封类型 产品效果
国内设备 沟槽是直线，同级的沟槽深度一样 沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下 目前是不通过变频器来调节，若通过变频调节，他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM（这是由于胶体磨的内部结构及精密的程度决定的。） 大约在10-15M/S 只有一种模块头 单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁 粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差
CIK 沟槽是曲线，上下深度不一，上深下浅 斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大 可以通过变频调速，转速可达7890/13789RPM ，通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍，研磨的力度也是他们的3-4倍，这样研磨的细度更小) 23-40 M/S 可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，NK胶体模块，NKO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块 双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转 可实现1-10微米小粒径材料加工
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