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管线式催化剂研磨分散机,催化剂高剪切胶体磨

参考价面议
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称上海依肯机械设备有限公司
  • 品       牌
  • 型       号CMSD2000
  • 所  在  地上海
  • 厂商性质生产厂家
  • 更新时间2017/8/12 21:05:19
  • 访问次数902
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上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业,依肯通过引进德国IKN*技术和科学管理模式,形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与的混合乳化技术同步,同时拥有*的技术研究人才和生产能力,为中国及提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为中国流体高剪切混合设备行业的*。

公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一乳化机,二 均质机,三 分散机,四 胶体磨,五 乳化泵,六成套设备等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国内的*供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为国家重点工程配套,部分产品返销国外,取得了显著的经济效益和社会效益。

“追求高品质”是依肯公司是的宗旨。“成功源自创新”亦是公司全体员工一直努力追随的目标。上海依肯机械设备有限公司将以求实、创新的企业精神走向市场。在您在关注和支持下、她将以不断发展壮大,在混合乳化设备制造的广阔天地中散发出*的魅力



乳化机,高剪切乳化机,管线式乳化机,均质机,分散机,乳化泵,胶体磨,成套设备
管线式催化剂研磨分散机,催化剂高剪切胶体磨,FCC催化剂研磨分散机,催化剂研磨机,催化剂分散机,Z高转速可以达到14000RPM。此款研磨分散机比普通的分散机机的速度达到4-5倍以上,分散乳化均质研磨效果非常好。
管线式催化剂研磨分散机,催化剂高剪切胶体磨 产品信息

管线式催化剂研磨分散机,催化剂高剪切胶体磨,FCC催化剂研磨分散机,催化剂研磨机,催化剂分散机,zui高转速可以达到14000RPM。此款研磨分散机比普通的分散机机的速度达到4-5倍以上,分散乳化均质研磨效果非常好。


在做纳米粉体分散或研磨时,因为粉体尺度由大变小的过程中,范德华力及布朗运动现象逐渐明显且重要。选择适当助剂以避免粉体再次凝聚及选择适当的研磨机来控制研磨浆料温度以降低或避免布朗运动影响,是湿法研磨分散方法能否成功地得到纳米级粉体研磨及分散关键技术。

              
    

   
管线式催化剂研磨分散机,催化剂高剪切胶体磨是由胶体磨、分散剂组合而成的高科技产品。 

    
*级由具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。


CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。 


的型号及规格

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

2000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

6000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10

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