ZEISS Sigma 500场发射扫描电子显微镜
用于高品质成像与高级分析的场发射扫描电子显微镜
灵活的探测，4步工作流程，高级的分析性能
将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提高效率。
Sigma 500 装配有背散射探测器，可快速方便地实现基础分析。任何时间，任何样品均可获得精准可重复的分析结果。
基于成熟的 Gemini 技术
Gemini 镜头的设计结合考虑了电场与磁场对光学性能的影响，并将场对样品的影响降至更低。这使得即使对磁性样品成像也能获得出色的效果。
Gemini in-lens 的探测确保了信号探测的效率。通过二次检测(SE)和背散射(BSE)元件同时减少成像时间
Gemini 电子束加速器技术确保了小的探测器尺寸和高的信噪比。
用于清晰成像的灵活探测
利用*探测术为您的需求定制 Sigma，表征所有样品。
利用 in-lens 双探测器获取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探测器，获取高达50%的信号图像。在可变压力模式下利用 Sigma 创新的 C2D 和 可变压力探测器，在低真空环境下获取高达85%对比度的锐利的图像。
灵活的检测器选项，获取清晰图像
使用新颖的ETSE和Inlens探测器在高真空下获取高分辨率表面形貌信息。
使用VPSE或C2D检测器在可变压力模式下获得清晰图像。
使用aSTEM检测器生成高分辨率透射图像。
使用BSD4或YAG检测器分析成分。
ZEISS Sigma 500场发射扫描电子显微镜高级分析型显微镜
将扫描电子显微镜与基本分析相结合：Sigma 背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。
在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。
获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。
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