Quorum Q150T新型高真空溅射镀膜仪
基于内部安装的涡轮分子泵抽真空平台，Q150T具有三种版本/型号的镀膜仪：溅射、蒸发镀碳和溅射/蒸镀。在运用科技整体成型的机箱上，设有彩色触摸屏，可允许多用户输入和贮存镀膜方案。在同一个易使用系统中，根据所选择的配置，Q150T可以是一台具水准的离子溅射镀膜仪用于高分辨扫描电镜（SEM）制样，也可以是一台适合SEM或透射电镜（TEM）应用的蒸发镀碳仪，或者是一台兼具溅射和蒸镀两功能的一体化镀膜仪。Q150T具有快速溅射易氧化和不氧化金属靶材的宽可选范围的能力，使其也成为许多金属薄膜研究及电极的应用等材料科学领域的一个理想镀膜平台。
高真空性能
Q150T装在一个坚固的特制整体成型机壳中，它容纳了所有工作部件，包括空气冷却的涡轮分子泵。自动进气控制保证了溅射期间、真空条件。真空腔室带有防爆安全罩。Q150T含有的“真空闭锁”允许在不用设备时维持腔室真空，从而改善真空性能。
Q150T系列三种型号
Q150TS：高分辨率磁控离子溅射镀膜仪，可溅射易氧化及不氧化金属（贵金属）。可选各种溅射靶材，包括常用于场发射电镜的铱和铬。
Q150TE：高真空热蒸发镀碳仪，可制作高稳定性的碳膜和表面覆形膜，对透射电镜（TEM）的应用非常理想。
Q150TES：集合了溅射和蒸镀两种沉积镀膜功能的镀膜系统，沉积镀膜头可在数秒内快速更换，智能逻辑系统自动识别出所装的镀膜头类型，并显示相应的操作设置。
上述每个型号还可选配一系列可选附件，如：金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等。
触摸屏控制
Q150T的操作核心为简单的触摸屏，即使不熟练的或偶而使用的操作者，仪器也能使其快速键入和贮存自己的处理数据。程序中已贮存了各种典型溅射及蒸发镀膜的参数资料，以便提供进一步的易操作帮助。
Quorum Q150T新型高真空溅射镀膜仪镀膜头选项
具有一系列可互换、即插即用的镀膜头：
溅射头，可使用易氧化及非氧化金属两大类宽范围靶材；并可用另外的溅射头来快速更换镀膜材料（仅为TS及TES版本）
碳棒蒸发头
碳丝蒸发头
金属蒸发/光阑清洁头，包括向上蒸发或向下蒸发两种蒸发方式（仅为TE和TES版本）
样品台选项
Q150T具有各种样品台以满足大部分的应用。所有的样品台更换容易，drop-in式样（无需螺钉）并且高度可调（除旋转行星台）。标准配置为旋转台，可选：
可预设倾斜角度的旋转台
可变角度旋转行星台
用于4”晶圆的平面旋转台
用于显微镜载玻片的样品台
其它选项
用于高样品的加高腔室
膜厚监测附件（FTM）
用于测量低和高真空的全范围真空计
Q150T系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面，让用户真正领略**的镀膜品质！
技术参数：
● 工作腔室：150mm内径 x 127mm高
● 触摸屏全图像用户界面
● 样品台：标配旋转台
● 真空系统：
涡轮分子泵：带有空气冷却的涡轮分子泵
旋转机械泵：双级旋转机械泵
● 溅射电流：0-150mA；可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器
● 溅射时间：长60分钟
● 碳蒸发：稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。
● 金属蒸发/光阑清洁头：用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。
● 尺寸和重量：仪器机箱：585mm宽x 470mm长 x 410mm高 (总高: 650mm)
● 仪器总重量：33.4Kg
主要特点：
● 金属溅射或碳蒸发或两者兼备：一体化设计，节约空间
● 精细颗粒溅射：高分辨率场发射扫描电镜（FE-SEM）制样的精细镀膜应用
● 涡轮分子泵高真空系统：允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜，大大拓宽了可溅射靶材范围，既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用，也为许多薄膜应用等材料科研领域提供理想的镀膜平台
● 全自动触摸屏控制：快速数据输入，简单操作
● 可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想
● 与镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动真空控制
● 精细的厚度控制：使用膜厚监控选项
● “智能”式系统识别：自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型
● 高真空碳蒸镀：对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想
● 蒸发电流波形控制
● Drop-in落入式快换样品台（标配旋转台）
● 真空闭锁功能：可让工作腔室处于真空状态，改善后续真空效果，或在真空条件下保存样品
● 镀制厚膜能力：一次真空条件下的溅射时间可长达60分钟（材料科研领域的应用）
● 人体工程学设计的整体成型机壳：易维护和易拆装
● 带有本地FTP服务器连接的以太网端口：简单的程序更新
● 设有功率因素补偿，有效利用电能，降低运行成本
● 符合当前电器法规（CE认证）
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