天津半导体纯水设备生产厂家
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天津半导体纯水设备简介:
半导体纯水设备
5、工艺说明
5.1 预处理部分目的:为反渗透装置提供合格的进水。
5.1.1原水预处理的目的和组成
A.反渗透系统进水要求:
(1)污染指数: SDI≤4;
(2)余氯: <0.1 ppm
(3)浊度 <1NTU
(4)供水Fe3+ ≤0.01ppm。
(5)供水水温适宜范围 10~30℃。
(6)碳酸钙饱和指数 LSI:<0
预处理系统就是通过絮凝、过滤、吸附等方法使反渗透进水达到以上要求,以实现以下目的:
(1)防止反渗透装置膜面结垢(包括CaCO3、CaSO4、SrSO4、CaF2、SiO2、铁铝氧化 物等);
(2)防止胶体物质及悬浮固体微粒对反渗透的污堵;
(3)防止有机物质的对反渗透的污堵和降解;
(4)防止微生物对反渗透的污堵;
(5)防止氧化性物质对反渗透膜的氧化破坏;
C.预处理系统的组成:包括石英砂滤器、活性炭滤器。
5.1.2石英砂滤器
多介质过滤器中的滤料包括多种规格的石英砂,用于除去原水中的悬浮物及及脱稳后的胶体,以使出水的污染指数SDI<4达到RO进水要求。