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KRI 霍尔离子源 eH 系列伯东代理

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公司名称伯东企业（上海）有限公司
品牌其他品牌
型号
所在地上海市
厂商性质经销商
更新时间2021/12/28 14:08:44
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产品标签:

离子源射频离子源中和器自动控制器离子束

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公司介绍主营产品

　伯东企业(上海)有限公司专业代理各国真空产品位于中国上海浦东外高桥保税区的伯东企业(上海)有限公司创建于1995年12月，是日本伯东株式会社独资设立的外商投资企业，公司注册资金为200万美元，到目前为止公司从业员工有400多人。

　　伯东企业(上海)有限公司 ()专业销售及维修德国Pfeiffer单双级旋片泵，干泵，罗茨泵，分子泵；应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管)；检漏仪，质谱仪，真空系统等等, 维修技术力量雄厚，保证 100 % 拥有标准的德国Pfeiffer原厂测试设备及调整工具和德国Pfeiffer专业培训工程师，多年来致力于真空系统的安装、调试、维修、拆机、保养等，具有优良的专业技能和服务意识，并获得原厂*维修资质证书。利用 Pfeiffer 进口检测设备对维修后的产品做*性能测试。另外公司还代理美国Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低温泵, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源，HVA 高真空阀门。

　　公司一直坚持品质*、信誉*的原则，为广大客户提供了高品质的产品以及良好的售后服务。到目前为止已先后通过了美国UL安全认证、ISO9001-2000质量体系认证、ISO14001-1996环境体系认证。公司将在今后的发展中秉承以人为本，不断开拓进取的精神，为满足客户的需求努力向专业化、优质化、集团化发展。

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氦质谱检漏仪,分子泵,原子力显微镜,高低温测试机,离子源,真空阀门

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产地	进口	产品新旧	全新

美国 KRI 霍尔离子源 eH 系列紧凑设计, 高电流低能量宽束型离子源, 提供原子等级的细微加工能力, 霍尔离子源 eH 可以有效地以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用.

KRI 霍尔离子源 eH 系列伯东代理产品信息

美国 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列
美国 KRI 霍尔离子源 eH 系列紧凑设计, 高电流低能量宽束型离子源, 提供原子等级的细微加工能力, 霍尔离子源 eH 可以有效地以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计有效提高吞吐量和覆盖沉积区. 整体易操作, 易维护. 霍尔离子源 eH 提供一套完整的方案包含离子源, 电子中和器, 电源供应器, 流量控制器 MFC 等等可以直接整合在各类真空设备中, 例如镀膜机, load lock, 溅射系统, 卷绕镀膜机等.

美国 KRI 霍尔离子源 eH 特性
无栅极
高电流低能量
发散光束 >45
可快速更换阳极模块
可选 Cathode / Neutralize 中和器

美国 KRI 霍尔离子源 eH 主要应用
辅助镀膜 IBAD
溅镀&蒸镀 PC
表面改性、激活 SM
沉积 (DD)
离子蚀刻 LIBE
光学镀膜
Biased target ion beam sputter deposition (BTIBSD)
Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)

例如
1. 离子辅助镀膜及电子枪蒸镀
2. 线上式磁控溅射及蒸镀设备预清洗
3. 表面处理
4. 表面硬化层镀膜
5. 磁控溅射辅助镀膜
7. 偏压离子束磁控溅射镀膜

美国 KRI 霍尔离子源 Gridless eH

霍尔离子源 eH 系列在售型号:

型号	eH400	eH1000	eH2000	eH3000	eH Linear
中和器	F or HC	F or HC	F or HC	F or HC	F
阳极电压	50-300 V	50-300 V	50-300 V	50-250 V	50-300 V
离子束流	5A	10A	10A	20A	根据实际应用
散射角度	>45	>45	>45	>45	>45
气体流量	2-25 sccm	2-50 sccm	2-75 sccm	5-100 sccm	根据实际应用
本体高度	3.0“	4.0“	4.0“	6.0“	根据实际应用
直径	3.7“	5.7“	5.7“	9.7“	根据实际应用
水冷	可选	可选	是	可选	根据实际应用

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解 KRI 霍尔离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 叶小姐中国台湾伯东: 王小姐

关键词：控制器