单温区PECVD系统

　　　　　　　　　　　　　　　　单温区PECVD系统

产品描述：

该炉由_{TL1200真空管式炉}、石英真空室、射频电源、_{GX供气系统}、_抽气系统、真空测量系统组成。采用双层壳体结构，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，抽真空时真空度能够达到10^-3Pa。该炉安装有行程开关，当炉盖打开时会自动切断电源。该炉通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高所需的温度更低。

技术参数：

1.额定温度：1100℃                        2.温度：1200℃                          3.电压：220V

4.加热元件：瑞典Kanthal-A1电阻丝        5.热电偶：K型

6.温控方式：智能化30段可编程控制         7._射频电源：详细参数请点击链接地址

8.升温速率：≤20℃/min 推荐升温速率：≤10℃/min

9.真空法兰和接头：请咨询相关业务人员           

10.质量流量计： 请咨询相关业务人员