三温区PECVD系统
产品描述:
该炉由TL1200真空管式炉、石英真空室、射频电源、GX供气系统、抽气系统、真空测量系统组成。采用双层壳体结构,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,抽真空时真空度能够达到10-3Pa。该炉安装有行程开关,当炉盖打开时会自动切断电源。该炉通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高所需的温度更低。
技术参数:
1.额定温度:1100℃ 2.温度:1200℃ 3.电压:220V
4.加热段:205mm+205mm 5.温控方式:智能化30段可编程控制 6.热电偶:K型
7.加热元件:瑞典Kanthal-A1电阻丝
8.升温速率:≤30℃/min 推荐升温速率:≤15℃/min
9.等离子射频电源:输出功率:50-500w可调±1% 稳定性
频率:13.56MHz ±0.005%
噪声:<50dB
冷却:空气冷却
输入功率:AC 220V,500W
10真空泵和阀门:采用KF25系列波纹管和精密球阀连接
真空度可达10-3Pa
数字真空压力表可直观的显示数值
11.质量流量计:内部装有高精度数字显示质量流量训科准确的控制气体流量
气体流量范围为0-200sccm,误差:0.02%
一个气体搅拌罐上安装了液体释放阀的底部情况
不锈钢针阀安装在左侧可手动控制混合气体输入的数量
进气口:采用国际标准双卡套接头
型号 | TL1200-1200-1200-PE-I | TL1200-1200-1200-PE-II | TL1200-1200-1200-PE-III |
炉管尺寸 | Φ60X1500 | Φ80X1500 | Φ100X1500 |