多功能CVD系统

型号/model

MFCVD-Ⅰ/ MFCVD-Ⅱ

微波特性

2450MHz（220V）；功率：4KW，分档和/或无极连续可调

谐振腔

304不锈钢谐振腔&专用波导设计避免电子回轰

加热方式

4种：微波等离子、纯微波、~传统电加热、混合加热

双温区结构

上部等离子区或加热区、下部样品台加热区

样品腔材质

石英管：微波等离子工作模式；石英管&刚玉管：纯微波、传统电加热、混合加热模式

样品腔直径/mm

Φ45、Φ60、Φ100石英样品腔(1100℃)可选；Φ45、Φ60刚玉样品腔(1500℃)可选

样品腔/加热区长度

样品腔：100~300mm可选；加热区：100mm或以上可选

样品台温度

室温-1200℃，更高温度可选；控温精度：±1℃/±2℃；触摸屏智能控制

升温速度

>200℃/min（微波等离子工作模式除外），可在0~升温速度之间编程设定自动控制

质量流量控制系统

2套，七星华创（真空保护阀门后置，匹配真空模式）；精度：0.8%；耐压：1MPa；控制响应时间：10ms；气体类型可选；计算机及控制软件，内置&实时显示&保存生长参数

超洁净真空系统

3Pa量级，涡旋泵+数字真空计； 10-3Pa量级，涡旋泵+分子泵+复合真空计

端口&气路

不锈钢KF50法兰接口，气柜、气路及阀门等

Ⅰ型结构

卧式：气流方向与样品台样品表面平行

Ⅱ型结构

立式：气流方向与样品台样品表面垂直

用途

该系统既可用作传统化学气相沉积设备，又可用作微波能化学气相沉积设备，同时又是微波等离子化学气相沉积系统。可用于各种功能薄膜的生长，例如：石墨烯、金刚石、各种半导体材料薄膜、磁性薄膜，等等。