应用领域和指标要求参考
| 用途 | 用水指标 | 参考标准 |
| 超纯材料和超纯化学试剂 石英、硅材料生产、加工、提纯 电子半导体、集成电路板上用到的化工材料 | 电阻率15 ~18.25 MΩ.CM
| 我国电子级水质技术指标 美国半导体工业用纯水指标 |
| 普通化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程 | 电导率≤10μs/CM
| 饮用纯净水标准（GB17324-98）
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主要工艺流程和出水指标：
※ 预处理+1级反渗透（电导率≤10μs/CM）
※ 预处理+二级反渗透（电导率≤2μs/CM）
※ 预处理+反渗透+离子交换器（电阻率≥15MΩ.CM）
※ 预处理+1级反渗透+EDI（电阻率≥15MΩ.CM）
- 预处理+二级反渗透+EDI +抛光混床（电阻率≥18.25MΩ.CM）
详细工艺需根据原水设计情况进行设计
纯水设备的主要特点
▼采用进口反渗透膜，脱盐率高，使用寿命长，运行成本低廉，产水水质高而稳定；
▼在线水质监测控制，实时监测水质变化，保障水质；
▼全自动电控程序，还可选配触摸屏操作，使用方便，操作简单、方便；
▼切合当地水质的个性化设计，设想周到的堆叠式设计，占地面积小，满足需求。
▼与传统工艺相比具有运行成本低的优点（离子交换器的再生周期大大延长），与工艺相比具有造价低，耗材易得的优点；
▼运行费用及维修成本低，全自动运行，实现无人化管理操作
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