光学镜片的清洗超纯水设备工艺

光学镜片的清洗超纯水设备工艺

1.反渗透+混床制取镜片清洗用超纯水

反渗透＋混床超纯水系统的产水电阻率达到1-15兆姆25℃,采用双极混床可达电阻率达到15-18兆欧姆25℃，应用领域十分广泛。反渗透加混床超纯水系统是利用反渗透系统除去水中95-97%以上的离子杂质,再用后级混床精处理,除去水中剩余离子,产水水质电阻率一般达到1-15兆欧姆25℃反渗透与混床的结合,有着设备投资省,运行成本低,管理维护方便等特点。

2.反渗透+EDI制取镜片清洗用超纯水

采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：源水（箱）→原水泵→机械过滤器→活性炭过滤器→软化器（根据水的硬度来选用）→精密过滤器→反渗透→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

这种方法用来制取超纯水的工艺，不需要用酸碱进行便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。

三、光学镜片清洗用超纯水设备设计优势

　　(1)系统采用新水处理技术双级RO+EDI+混床模块化设计，严格按新技术设计标准，确保水质稳定，长效运行。

　　(2)通过专业技术设计，确保系统短时停机及长时间停机时水质保持稳定。

　　(3)通过专业技术保证终端出水恒压、水质稳定。

　　(4)通过完善的技术，大限度的提高系统回收率，降低能耗和运行成本。

　　(5)采用ESPA2超低压膜，运行稳定，能耗低。

　　(6)采用PH调节系统以确保水温下降或原水PH值偏低时EDI出水水质。

光学镜片的清洗超纯水设备工艺