激光物质 | Nd3+: YVO4 |
激光波长 | 1064 nm |
调制频率 | 1-200 kHz |
激光功率 | 20 W |
光束发散角 | ≤2.0 mrad |
脉宽 | 35 ns |
重复定位精度 | ±10 nm |
刻膜速度 | 800-1500 mm/s |
额定输入电压 | AC 380V ±10%, 50Hz/60Hz |
zui大输入功率 | 12 kVA |
外形尺寸 | 4500mm×2500mm×1700mm |
净重 | ≥6000Kg |
冷却方式 | 水冷 |
刻蚀项目 | TCO: SnO2, ZnO |
刻膜规格 | 1400×1100mm 1250×635mm |
刻膜宽度 | 30-60μm |
三线总宽 | 300-500μm |