PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积（CVD）反应温度降低，在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离，形成等离子体，
利用等离子体的活性来促进反应，所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统（PECVD）。
主要特点：
1. 管内真空度自动平衡——管内真空度实时监测，自动平衡。PECVD工艺要求石英管内真空度通常在0.1～100Pa之间，该型号PECVD的AIO控制系统会通过真空泵的自动启停来维持用户设定的管内真空度，使成膜效果达的均匀性。
2. AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控，协调控制——成仪AIO控制系统；
3. 射频功率的定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间，自动运行；
4. 炉膛移动速度可调——根据实验要求，用户可设定炉膛左右移动的速度可距离，在沉积结束后炉膛可自动移开沉积区，使样品快速冷却；
5.增加了气体预热温区，在气体电离前把反应气体加热到实验温度，使得沉积效果更佳稳定，缩短沉积时间。
| 设备名称： | 带气体预热双温区RECVD系统 |
| 型 号： | PE1260B-Y |
| 炉膛模式： | 开启式炉膛 |
| 显示模式： | 7英寸触摸屏 |
| 控制系统： | 成仪AIO智能控制系统 |
| 极限温度： | 1200℃ |
| 加热元件： | 掺钼铁铬铝合金加热丝 |
| 测温元件： | K型热电偶 |
| 保温材料： | 高纯度氧化铝纤维 |
| 工作温度： | ≤1150℃ |
| 升温速率： | 建议10℃/Min |
| 加热温区： | 双温区 |
| 总温区长度： | 200+200 |
| 进气预热温度： | 800℃ |
| 进气预热区长度： | 200mm |
| 炉管规格： | 60*1400mm |
| 控温精度： | ±1℃ |
| 密封方式： | 快速法兰密封 |
| 温度曲线： | 30段"时间—温度曲线"任意可设 |
| 预存曲线： | 可预存15条温度曲线 |
| 曲线显示： | 烧结曲线实时描绘显示 |
| 射频电源功率： | 5～300W自动匹配 |
| 射频频率： | 13.56MHz |
| 真空系统抽速： | 2L/s |
| 真空泵类型： | 双级联高真空机械泵 |
| 真空泵极限真空度： | 10-2Pa |
| 系统真空度： | ≤20Pa |
| 管内压力要求： | 根据用户设定自动启停真空泵，达到压力自动平衡 |
| 压力保护： | 管内超压后自动放气泄压 |
| 供气系统： | 3～5路质量流量计 |
| 精准度： | ±1 |
| 气体种类： | 乙炔、氢气、氮气、二氧化碳 |
| 气体切换： | 根据用户设定，气体可以实现自动切换 |
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