产品信息
特 点
● 工艺过程中的薄膜高速测量
●最短曝光时间1ms~※根据规格
●支持远程测量
●膜厚测量范围65nm~92μm(换算为SiO2)
基本配置
多点测量点切换对应系统
在多点测量点切换对应系统中,通过在TD方向预先设置任意宽度的多分支光纤,可以在不驱动光纤的情况下测量TD方向的膜厚分布。可以作为涂层的条件和实时监视器使用。
检测器和数据处理系统为1式,通过光纤的光路切换可以进行多点测定。
横动单元对应系统
在横动单元对应系统中,通过在TD方向上驱动横动单元,可以以任意宽度和任意间距测量TD方向的膜厚分布。
可以作为涂层条件提出和实时监控使用。 由于通过排线单元的驱动进行多点测量,因此无需准备多台检测器和数据处理。
即使在真空环境下也可以在多点进行反射、透射光谱测定
通过使用各种法兰对应的耐真空纤维,可以在高真空下测量反射、透射光谱。
另外,膜厚运算不易受到基膜的上下移动的影响,并且采用精度良好的薄膜测量大冢电子独自的算法,可以作为实时监视器使用。
式样
MCPD-9800仕様
MCPD-6800仕様