主要特点
高纯度水质：能够制备出电阻率高达 18MΩ・cm 及以上的超纯水，几乎不含任何杂质，如总溶解固体 (TDS) 通常低于 1μg/L，无有机物污染、微生物和颗粒物，满足微电子生产中对水质的苛刻要求，例如在芯片制造过程中，用于清洗硅片，去除表面的微粒和污染物，确保芯片的质量和性能 手机版。
自动化程度高：配备**的 PLC 控制系统，可实现全自动运行，从进水、预处理、反渗透、EDI 到终端精处理，整个过程无需人工干预，稳定可靠。减少了人工操作，提高生产效率，降低人为错误风险 。
维护简便：设备的组件设计易于拆卸和清洗，如反渗透膜组件和 EDI 模块采用模块化设计，更换和清洗便捷。同时，配备在线监测系统，实时监控水质参数，及时发现并解决问题，有助于延长设备使用寿命 。
适应性强：可以根据不同用户的具体需求定制解决方案，灵活调整工艺参数，适用于大规模的半导体生产线以及小型的研发实验室等多种应用场景 。
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