C-25X300型 4英寸/6英寸 高精度对准光刻机
主要用途：
本机针对各大专院校、企业及科研单位。对光刻机使用特性研发的一种高精度的光刻机，三层减震，组合式，拆卸方便。
它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产，适合硅片、玻璃片、陶瓷片、铜片、不锈钢片、宝石片的曝光，而且也适合易碎片如:砷化钾、磷化铟的曝光以及非圆形基片和小型基片的曝光。
主要性能指标：
1. 多种版夹盘
l C-25X300型4英寸有四种版夹盘,能真空吸附5"×5"或4"×4"或3"×3"方形掩板。对版的厚度无特殊要求（1～4mm皆可）。
l C-25X300型6英寸有六种版夹盘,能真空吸附7"×7"或6"×6"或5"×5"或4"×4"或3"×3"或2.5"×2.5"方形掩板。对版的厚度无特殊要求（1～4mm皆可）。
2. 真空吸附基片的“承片台”
l C-25X300型4英寸设有相对应的真空吸附基片的“承片台”三个，分别适用于φ2、φ3、φ4。对于非标准片或碎片，只要堵塞相应的小孔，同样能真空吸附。
l C-25X300型6英寸设有相对应的真空吸附基片的“承片台”五个，分别适用于φ2、φ3、φ4、φ5、φ6。对于非标准片或碎片，只要堵塞相应的小孔，同样能真空吸附。
3. 照明
l 曝光面积：100mm*100mm
l 曝光不均匀性≤3%
l 曝光强度≥40mW/cm²可调
l 紫外光束角≤3°
l 紫外光中心波长365nm、404nm、435nm可选
l 紫外光源寿命：≥2万小时
4. 采用进口时间继电器（该继电器可从0.1秒∽999.9秒预设）控制气动快门，动作准确可靠。
5. 该机为接触式曝光机，但可实现：
l 硬接触曝光：用管道真空来获得高真空接触。真空≤-0.05MPa。
l 软接触曝光：接触压力可将真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之间。
l 微力接触曝光：小于软接触。真空≥-0.02MPa。
6. 分辩率估计
如果用户的“版”、“片”精度符合国家规定，环境、温度、湿度、尘埃得到严格控制，采用进口正性光刻胶，且匀胶厚度得到严格控制。加之前后工艺的话，硬接触曝光的最小分辨度可达1μm以上
7. 对准
观察系统为两个单筒显微镜上装二个CCD摄像头，通过视屏线连接到显视屏上。
a.单筒显微镜为0.7X～4.5X连续变倍显微镜（也可为1.6X～10X）。
b.CCD摄像机靶面对角线尺寸为：1/3，（6mm）;
c.采用19"液晶监视器，其数字放大倍率为19÷1/3=57倍；
d.观察系统放大倍数为：0.7×57≈40倍（最小倍数），4.5×57≈256倍（倍数）或（91倍～570倍）。
对准台：（采用片动，版不动方式）
X、Y调整：±5mm。
θ调整：转角≤5°
对准间隙（分离间隙）0～5mm任意可调。
对准精度：1μm
套刻精度：1μm
整个对准台相对于显微镜可作±20mm扫描运动。
“接触、分离”20μm情况下，片相对于版的“漂移量”，可调到≤±0.5μm。
8. 设备所需能源：
主机电源： 220V±10% 50HZ
洁净空气≥0.4MPα。
真空：-0.07～－0.08MPα。
9. 尺寸和重量：
尺寸：机体720 mm（长）×720 mm（宽）×882mm（高）。
重量：≤100Kg。
机体放在专用工作台上。
工作台:1100 mm（长）×750 mm（宽）×645 mm（高）。
高度可调范围0～30mm。
重量50Kg（工作台后侧装有电气部分）。
总重量≤200Kg
10. C-25XB型光刻机的组成
l 主机
主机（含机体和工作台）
对准用单筒显微镜
LED曝光头
l 附件
主机附件
3"□型掩版夹盘
4"□型掩版夹盘（出厂时安装到机器上）
用于2"基片的真空夹持承片台。
用于3"基片的真空夹持承片台（出厂时安装到机器上）
（若需特殊的基片承片台，订货时用户提出）
显微镜组成
单筒显微镜二个
两个CCD
视频连接线。
计算机和22"液晶监视器。
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