日本AMAYA株式会社天谷制作
高清光掩模兼容的旋转式清洗设备伍尔夫系列
与高清光掩模兼容的旋转式清洗设备
伍尔夫系列
清洁溶液高速扩散到清洁表面
快速消除异物和反应产物
无水痕干燥

特征
随着LSI变得越来越复杂,光掩模/光罩需要更高的清晰度和准确性。 我们的清洗设备有助于这些产品的高清洁度和产量提高,并合作生产更完整的产品。
配备使用功能水的旋转清洗单元,该单元可以通过工件旋转的离心力、臭氧水和添加氨的氢水排放去除有机物、金属离子和异物,直至检测极限水平。 通过切换和清洁每个清洁溶液,可以高速去除工件上的不纯沉积物,废液管理也是一种**的环境响应工具。
采用
替代RCA清洗液的清洗液和清洗方法 SPM→臭氧水 ・实现完整的室温清洗(无需高温工艺) ・减少口罩
上化学溶液的残留量
・更**的废液处理(ISO14000措施)
SC-1 → 氢水加氨
・MoSi半色调掩膜的蚀刻预防
性能
PSM *终清洁(无 SPM) | |||
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类别 | 不。 | 项目 | 规范 |
空白 | 1 | 无颗粒 | >32纳米 |
2 | 预置% | ≧95% | |
图像层 (图案侧) | 3 | QZ 上的剩余软缺陷 | ≧0.05微米 (产率 : 98%) |
4 | 移位器上剩余的软缺陷 | ≧0.05微米, ≦10个 (产率 : 98%) | |
5 | SRAF(深色)缺失 | 没有遗漏 | |
6 | 图案损坏、静电放电、划痕 | 无损坏 | |
7 | 换档器变化(相位) | ≦-0.2 度,平均清洁 10 倍 | |
8 | 换档器(变速器) | ≦0.025%,平均清洁 10 倍 | |
9 | 换档器(CD 平均值) | ≦0.15nm,平均清洁度为10倍 | |
10 | 换档器(CD 范围) | ≦0.5nm,平均清洁度为10倍 | |
离子残基 | 11 | 化学残留物 (SO4) | ≦0.5 ppb |
12 | 化学残留物(NH4) | ≦17.0 ppb |
原理图规格

大小
清洗装置本体 | 7300毫米(宽) x 1410毫米(深) x 2300毫米(高) |
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电源箱 | 1400毫米(宽) x 500毫米(深) x 2150毫米(高) |
化学溶液盒 | 2500毫米(宽) x 700毫米(深) x 2000毫米(高) |
过滤器框 | 2600毫米(宽) x 700毫米(深) x 2000毫米(高) |
热滴机组 | 1250毫米(宽) x 550毫米(深) x 1750毫米(高) |
氢水和碳酸水装置 | 1050毫米(宽) x 1500毫米(深) x 2000毫米(高) |
臭氧水机组 | 570毫米(宽) x 850毫米(深) x 2000毫米(高) |
效用 | ・三相200V、・单相100V、・DIW、・冷却水、・清洁干燥空气、・氮气、・一般排气、・酸性排气、・碱性排气 |
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