2023-02-10 09:44:54486
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1600℃真空/气氛管式炉CVD系统（CVD-TF），提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、等纤维等领域，此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控
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