2023-02-10 09:32:26553
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此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。优点炉膛采用多晶莫来纤维真空吸附制成，温场均匀节能50%以上自主研发的空气导流隔热技
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