2021-07-16 20:56:39225
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日本JEOLJBX-3050MV电子束光刻系统，用于制作45nm～32nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50kV的可变矩形电子束和步进重复式
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