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日立离子研磨仪器 IM4000PLUS

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更新时间:2022-12-26 10:44:21浏览次数:259

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产品简介

高通量的断面研磨配备断面研磨能力达到500µm/h*2以上的高效率离子枪

详细介绍




高通量的断面研磨

配备断面研磨能力达到500 µm/h*2以上的高效率离子枪。因此,即使是硬质材料,也可以高效地制备出断面样品。

*2
在加速电压6 kV下,将Si从遮挡板边缘伸出100 µm并加工1小时时的深度

断面研磨

  • 即使是由硬度以及研磨速度不同的成分所构成的复合材料,也可以制备出平滑的断面样品
  • 优化加工条件,减轻损伤
  • 可装载20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的样品

断面研磨的主要用途

  • 制备金属以及复合材料、高分子材料等各种样品的断面
  • 制备用于分析开裂和空洞等缺陷的断面
  • 制备评价、观察和分析所用的沉积层界面以及结晶状态的断面


断面研磨加工原理图









平面研磨(Flat Milling®

  • 均匀加工成直径约为5mm的范围
  • 可运用于符合其目的的广泛领域
  • 可装载直径50 mm × 厚度25 mm的样品
  • 可选择旋转和摆动(±60度~±90度的翻转)2种加工方法

平面研磨(Flat Milling®)的主要用途

  • 去除机械研磨中难以消除的细小划痕和形变
  • 去除样品的表层
  • 消除FIB加工的损伤


平面研磨(Flat Milling®)加工原理图











与日立SEM的样品结合

  • 样品无需从样品台取下,就可直接在SEM上进行观察。
  • 在抽出式的日立SEM上,可按照不同的样品分别设置截面、平面研磨杆,因此,在SEM上观察之后,可根据需要进行再加工。


 


冷却温度调节功能*1


附冷却温度调节功能的IM4000PLUS

该功能可有效防止加工过程中,由于离子束照射引发的样品的温度上升,所导致样品的溶解和变形。对于过度冷却后会产生开裂的样品,通过冷却温度调节功能可防止其因过度冷却而产生开裂。

*1
此调节功能不是IM4000PLUS的标配功能,而是配有冷却温度调节功能的IM4000PLUS功能。









样品:铅焊料


常温研磨


冷却研磨


 






项目 内容
IM4000PLUS IM4000PLUS
断面研磨杆 平面研磨杆
使用气体 Ar(氩)气
加速电压 0 ~ 6 kV
研磨速度(Si材料) 500 µm/hr*1 以上 -
样品尺寸 20(W)× 12(D)× 7(H)mm Φ50 × 25(H) mm
离子束
间歇照射功能
标配
尺寸  616(W)× 705(D)× 312(H)mm
重量  机体48 kg+回转泵28 kg
附冷却温度调节功能的IM4000PLUS
冷却温度调节功能 通过液氮间接冷却样品、温度设定范围:0°C ~ -100°C
选项
空气隔离
样品夹持器
仅支持断面研磨夹持器 -
FP版断面研磨夹持器 100 µm/rotate*2 -
用于加工监控的显微镜 倍率 15 × ~ 100 × 双目型、三目型(支持CCD)

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