API原料药可在线灭菌消毒物残留死角的高速纳米胶体磨设备厂家，原料药研磨均质机，原料药胶体磨，医药胶体磨，药剂胶体磨，API胶体磨，IKN医药级胶体磨比普通胶体磨研磨细化能力更强，转速为14000rpm，是它们的4-5倍；另外，IKN还有一款改进型的胶体磨，在胶体磨的基础上加入了一组分散盘，有利于药剂的进一步分散细化和均质。
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原料药是指用于生产各类制剂的原料药物，是制剂中的有效成份由化学合成、植物提取或者生物技术所制备的各种用来作为药用的粉末、结晶、浸膏等，但病人无法直接服用的物质。
原料药的药效的发挥，一般取决于原料药粒径的细化，粒径越小，药效释放的更*。原料药一般都会分散到水中或者溶剂当中（如卡波姆溶液），制得药物混悬液，zui终得到医药成品。
医药混悬液zui终的体系很大程度上由原料药的粒径细化，以及原料药的分散情况决定的。粒径细化更小，分散更均匀，制得的医药混悬液才会更加稳定并且药效更高。
目前，许多药厂一般都采用胶体磨进行处理，一般采用3000rpm国产胶体磨，但是效果并不理想。而上海依肯高剪切胶体磨就不一样的，更高的转速，更精密的磨头结构，使得研磨的效果大大好于国产胶体磨。另外IKN又自主研发了改进型的胶体磨，将高剪切胶体磨和高剪切分散机进行结合，一体化设备，进一步提高胶体磨的研磨能力，以及强化胶体磨的分散能力。API原料药可在线灭菌消毒物残留死角的高速纳米胶体磨设备厂家，原料药研磨均质机，原料药胶体磨，医药胶体磨，药剂胶体磨，API胶体磨
原料药胶体磨CM2000系列特别适合于胶体溶液、超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，CM在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用zuijia几何机构的研磨定转子，的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。
IKN医药级胶体磨胶体磨结构：三道磨碎区：一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区。我们的磨头的结构：沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大，这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
医药级胶体磨CM2000系列的特点：
1、定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
2、齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
3、沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
医药胶体磨CM2000系列设备选型表
型号 | 流量 L/H | 输出转速 rpm | 线速度 m/s | 马达功率 KW | 出/入口连接 |
CM2000/4 | 700 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CM2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CM2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
CM2000/20 | 20，000 | 2，850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CM2000/30 | 40，000 | 1，420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CM2000/50 | 80，000 | 1，100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
注：流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同事流量可以被调节到zui大允许量的10%
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