详细摘要： 应用范围适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、刻蚀、清洗、镀膜。

详细摘要： 应用范围 1、等离子机实现酶标板表面亲水改性2、等离子表面处理实现深孔板表面亲水改性 (高分子材料表面亲水改性)3、等离子表面处理设备应用于细胞培养瓶表面活化4...

详细摘要： 应用范围 适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、刻蚀、清洗、镀膜。

详细摘要： 应用范围 适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、刻蚀、清洗、镀膜。

详细摘要： 应用范围适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、刻蚀、清洗、镀膜。

详细摘要： 在半导体封装过程中，刻蚀机常用于晶圆清洗和光刻胶的去除工艺中，在等离子体发生器中通入少量的氧气，在强电场作用下，使氧气产生等离子体，迅速使光刻胶氧化成为可挥发性...