全自动氩气纯化装置氩气纯化设备装置特点：设备外形色彩喷漆为乳黄色，采用烤漆形式，美观耐用，填装净化材料容器内壁做表面处理。选材优良，氩气流经阀门，管道选用316材质,*解决气源重复污染，纯气出口管路采用B*，保证纯气的洁净如一。

 严格的质量控制，在制作过程中，邀请需方作全过程跟踪督察。 进出口微氧分析仪在线监测，直观显示原料气体氧含量及纯化后的氧气含量。

5.       纯气zui终过滤系统一用一备，更具人性化，*解决*运行顾虑。 加氢还原系统采用质量流量计控制，真正做到定时定量全自动运行。一键式启动设备，工作状态实时显示，操作简单、安全、明了。

全自动氩气纯化装置氩气纯化设备设备工作原理

设备工作设有两组工作组，填装的净化材料属于可再生重复利用材料。原料液氩经汽化器汽化后由设备工作进口进入设备一组工作组，经脱氧剂、分子筛及精密高效过滤器后送出至工作点使用。一组工作组负荷饱和后，切换到另一组工作组工作，保证为使用点连续的提供高纯氩气。同时一组工作组开始再生加热加氢反吹洗（本系统加氢是为了还原脱氧剂，加氢结束后设备自动吹洗并直接放空），为等待下一次切换使用做好准备。

装置工作为常温工作，脱氧程度深、碳水含量低，均可达到并高于GB高纯氩气标准。

主要技术条件

1 处理气量                         ≥2-320Nm3/h

2 工作压力                         ＜0.8Mpa

3 原料氩气纯度                     ≥99.999%

4 纯化后                         O2 ≤0.2ppm CO+CO2＜0.3ppm

CH4＜0.2 ppm    H2O≤1ppm

5 耗氢量                            0.4m³/h（再生6小时

5 电源电压                          380V 50HZ

6 装机功率                          22.5KW   （再生6.5小时）

7 冷却水用量                        1m³/h   （水温应＜30℃

8 需提供压缩空气压力               ＞0.4Mpa  （干燥无杂质）

9 设备外形                          长2300x宽1800x高2300（mm）

高纯氩气主要用途：用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等

氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。通过对本装置的使用，氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求，赢得客户的满意和市场的需求。

由于一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，但使用氩气的客户确不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。一般 O2＜0.2ppm,水分＜1ppm，这样稳定的氩气对生产晶体质量是有保证的。

 氩气纯化装置是针对需要使用超高纯度氩气的客户而设计的。全自动氩气纯化装置，具有触摸面板一键式启动、停止工作，操作简单明了。装置工作设有两组工作组，交替工作，循环使用。其中一组工作，另一组再生冷却备用。工作组工作无需加热，为常温工作。对应面板触摸屏可查看设备组成硬件、操作简介、观察、监视工作组工作状态、再生组再生状态、工作组工作时间、切换时间、设备总工作时间、再生加氢及加热时间和报警信息状态。