氩气纯化器一键再生氩气纯化器主要用途：用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等

氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。通过对本装置的使用，氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求，赢得客户的满意和市场的需求。

氩气纯化器一键再生氩气纯化器由于一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，但使用氩气的客户确不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。一般 O2＜0.2ppm,水分＜1ppm，这样稳定的氩气对生产晶体质量是有保证的。

 氩气纯化装置是针对需要使用超高纯度氩气的客户而设计的。全自动氩气纯化装置，具有触摸面板一键式启动、停止工作，操作简单明了。装置工作设有两组工作组，交替工作，循环使用。其中一组工作，另一组再生冷却备用。工作组工作无需加热，为常温工作。对应面板触摸屏可查看设备组成硬件、操作简介、观察、监视工作组工作状态、再生组再生状态、工作组工作时间、切换时间、设备总工作时间、再生加氢及加热时间和报警信息状态。