反应离子刻蚀机

概述：

   NRE-4000反应离子刻蚀机是一款独立式PE刻蚀RIE刻蚀一体机，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载。腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断。该系统可以支持到12"的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。

原理：

   NRE-4000是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。

主要用途：

介质薄膜干法刻蚀，包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等

产品特点：

铝质腔体或不锈钢腔体

不锈钢立柜

支持各向同性刻蚀和各向异性刻蚀两种模式

能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属

典型的硅刻蚀速率，400 ?/min

高达12"的阳极氧化铝RF样品台

水冷及加热的RF样品台

大的自偏压

淋浴头气流分布

极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别

涡轮分子泵

NRE-3000支持4个MFC，NRE-4000支持8个MFC

无绕曲气体管路

自动下游压力控制

双刻蚀能力：RIE以及PE刻蚀(可选)

终点监测

气动升降顶盖

手动或自动上下载片

预真空锁

基于LabView软件的PC计算机全自动控制

菜单驱动，4级密码访问保护

*的安全联锁

可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀

技术指标:

气体种类：O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3等

基片尺寸：支持8英寸，并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片

射频电源  ：  

ICP电源：13.56MHz，1400W; 偏压电源：13.56MHz，800W

工艺温度：10℃到80℃可控      

传送模式：自动Loadlock传送系统

其他产品：

NRE-4000：基于PC计算机全自动控制的独立式系统，占地面积26“D x 44"W

NRE-3500：基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统，占地面积26“D x 26"W

NRE-3000：基于PC计算机全自动控制的台式系统，占地面积26“D x 26"W

NRP-4000：RIE/PECVD双系统

NDR-4000：深RIE刻蚀(深硅刻蚀)系统