上海依肯机械设备有限公司
主营产品: 乳化机,均质机,分散机,胶体磨,剪切机,乳化泵 |
上海依肯机械设备有限公司
主营产品: 乳化机,均质机,分散机,胶体磨,剪切机,乳化泵 |
参考价 | 面议 |
纳米活性氧化锌研磨分散机,在线式纳米活性氧化锌分散机,立式纳米活性氧化锌研磨分散机,药用辅料纳米活性氧化锌研磨分散机,高剪切纳米活性氧化锌研磨分散机,高转速纳米活性氧化锌研磨分散机
我们知道,氧化锌作为硫化体系*的助剂,其填充量较高,一般为5份左右,由于氧化锌比重大,填充量大,其对胶料密度的影响非常大。而动态使用的制品如轮胎等,重量越大,其生热、滚动阻力就愈大,对制品使用寿命和能源消耗都不利,尤其是现代社会,人们对产品安全性和环保都提出了很高的要求。zui近的国外轮胎剖析资料表明:其氧化锌用量远低于普通水平,一般约为2-3份左右。而以前由于材料的落后无法实现这一点,现在云南化工冶金研究所大比表面纳米活性氧化锌的出现,可*减量至这个水平,基本*了这一空白。
纳米氧化锌的分散难点:纳米氧化锌分散到水中或者溶剂当中,容易出现抱团的现象,导致物料粒径变大,分散效果不佳,产品改性不充分。
如果使用普通的分散设备,很难将纳米氧化锌分散均匀,会出现团聚的现象,团聚体难以打开,而如果采用IKN研发的分散设备,研磨分散机的话,先研磨后分散机,解决团聚问题,可达纳米氧化锌还原至纳米级
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上海依肯研发的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良,在原来CM2000系列研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。在胶体磨的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择) IKN研磨分散机可以高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速可达14000rpm,是目前国产设备转速的4-5倍。
CMD2000研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。
CMD2000研磨分散机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。
研磨分散机的优势:
更稳定 采用优化设计理念,将先x的技术与创x的思维有效融合,并体现在具体的设备结构设计中,为设备稳定运行提供了保证.
新结构 通过梳齿状定子切割破碎,缝隙疏密决定细度大小,超高线速度的吸料式叶轮提供*切割力,纤维湿法研磨破碎可达400目.
更可靠 采用整体式机械密封,zui大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题,安装与更换方便快捷.
新技术 采用国x先x的受控切割技术,将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内,满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.
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CMD2000系列研磨分散机的特点:
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
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