头孢克肟混悬液超细研磨分散机，第三代头孢菌素类抗生素胶体磨，智能控制自动化胶体磨，头孢混悬液胶体磨，头孢克污分散剂胶体磨，高品质高配德国胶体磨，超细药物混悬液胶体磨

IKN研磨分散机设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。

头孢克肟为口服用的第三代头孢菌素类抗生素，适用于治疗敏感菌所致的呼吸、泌尿和胆道等部位的感染。头孢克肟对革兰阴性杆菌产生的β-内酰胺酶高度稳定，对革兰阴性杆菌抗菌作用强于第yi代和第二代头孢菌素，对革兰阳性球菌抗菌作用不如第yi代和第二代头孢菌素。

一般采用研磨混合法研制头孢克肟混悬液，并一般采用高品质的研磨混合设备，因为混悬液的粒径会影响产品的稳定性以及药性。

头孢克肟混悬液研磨分散设备简介

头孢克肟混悬液超细研磨分散机，第三代头孢菌素类抗生素胶体磨，智能控制自动化胶体磨，头孢混悬液胶体磨，头孢克污分散剂胶体磨，高品质高配德国胶体磨，超细药物混悬液胶体磨

结合多家药企案例，*采用CMSD2000系列研磨分散机进行头孢克肟混悬液的研磨混合分散，一般粒径可达DN90≤5μm，产品均匀度更高。并且CMSD2000系列更环节都带有夹套，处理过程中可对物料进行温度控制；清洗方便，符合在线清洗和灭菌。

头孢克肟混悬液超细研磨胶体磨采用胶体磨和分散机的一体化设计相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之前，就进行了分散，一个瞬间作用，效果会好很多。

IKN高剪切分散胶体磨在医药行业的应用案例:

1、头孢类混悬液，采用CMSD2000系列高剪切分散胶体磨，处理30min，粒径可达5μm；

2、疫苗及脂肪乳乳化，采用IKN分散胶体磨，乳液粒径可达300nm；

3、阿苯达唑混悬液，采用CMSD2000分散胶体磨，14000rpm，粒径可达10μm；

4、口服液，采用IKN分散胶体磨，14000rpm，20min，粒径可达3μm；

当然还有其他方面的应用，以及具体工艺得出的结果不一定相同，供参考！

头孢克肟混悬液超细研磨胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

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设备结构：

第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

应用领域：

医药工业：各型糖浆、营养液、中成药、膏状药剂、生物制品、鱼肝油、花粉、蜂皇浆、疫苗、各种药膏、各种口服液、针剂、注射液,混悬注射液,脂肪乳,静滴液,乳化猪皮，口服混悬液，注射混悬液 ，胶囊，微球 动物组织破壁盐酸头孢噻呋，硫酸头孢喹肟 等。 

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。

3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4 本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准。

5 本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料；物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。

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