在地球的地壳中，硅酸盐矿物占据了90%以上的比例，使得硅成为仅次于氧的第二大丰富元素，按质量计算约占28%。大约20%的硅矿物被提炼至冶金级别的纯度，而其中的一小部分更是被进一步精炼至半导体级别的超高纯度，通常达到99.9999999%或更高。自20世纪末至21世纪初，硅在工业领域的广泛应用，对全球经济产生了深远的影响，特别是在半导体电子工业中，高纯工业硅对于晶体管和集成电路芯片的生产至关重要。
珀金埃尔默NexION 5000 ICP-MS
ICP-MS是灵敏、准确的痕量元素分析技术。NexION® 5000多重四极杆ICP-MS将新颖的第二代三锥接口(TCI)与OmniRing技术、专有等离子发生器，LumiCoil射频线圈、具有动态带通调谐功能的通用池技术以及多重四极杆技术整合在一起，增强了仪器的分析性能、灵敏度以及可靠性。
检测过程中涉及的
耗材产品信息请参考下表：
NexION 5000 ICP-MS技术能够精确分析高纯度硅基质中的痕量污染物，确保硅材料的超高纯度，提高了分析效率，还有助于减少对环境的影响，是实现绿色科技的重要工具。
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