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半导体制造过滤

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厂商性质生产商

所  在  地杭州市

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更新时间:2022-10-03 09:57:23浏览次数:208次

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半导体制造过滤 半导体制造工艺复杂严苛,涵盖光刻、精密切割和研磨等各种复杂工艺,涉及光刻胶、研磨液、显影液、蚀刻液等的过滤。囊式过滤器体积小、过滤介质损失小,一体式、安装方便节约使用成本的特点。广泛应用于半导体制造过滤。 ......
产品描述
料结构
操作条件
过滤精度(um)
滤材: PP、PES、PTFE、PVDF、N6、N66、MCE
壳体: 聚丙烯
密封技术: 热熔焊接
工作温度:≤60℃
可耐压差:4 bar (21℃)
灭菌方法:121℃/30min蒸汽灭菌
0.05、0.10、0.22、0.45、1.00、5.00
有效过滤面积
0.11㎡/0.22㎡
进出口方式
滤芯尺寸

螺纹式:1/4"NPT、3/8"NPT 、1/2"NPT
插管式:1/4"宝塔接头、3/8"宝塔接头、1/2"宝塔接头
快装式:0.5"卡盘接头、1"卡盘接头
长度(内芯): 2.5"、5 "

应用领域


制药行业:小流量液体过滤,溶剂样品过滤。

电子行业:光学镜片单体过滤,锂电池电解液过滤,研磨液过滤,油墨过滤等。





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