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1400℃真空/气氛管式炉CVD系统（CVD-TF） 详细摘要： 此CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。优点炉膛采用多晶莫来纤维真空吸附制...
产品型号： 所在地： 更新时间：2020-09-25 参考价： 面议 在线留言
| 天津市泰斯特仪器有限公司 |
详细摘要： 此CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。优点炉膛采用多晶莫来纤维真空吸附制...
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